Компания ASML продемонстрировала источник жесткого ультрафиолетового излучения, который преодолевает главное препятствие на пути массового внедрения EUV-литографии в полупроводниковом производстве.
Технология литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) долгое время оставалась перспективным, но недоступным решением для перехода к более тонким нормам техпроцесса. Главная проблема заключалась не в самом принципе — фундаментальные разработки велись годами, — а в практической реализации: имеющиеся источники излучения обладали недостаточной мощностью для обеспечения производительности, требуемой в серийном производстве.
На выставке Semicon West компания ASML, специализирующаяся на оборудовании для полупроводникового производства, представила источник EUV-излучения мощностью 250 Вт. Это решение обещает устранить один из ключевых технических барьеров, препятствовавших массовому внедрению EUV-литографии.
Динамика развития мощности источников
Прогресс в области EUV-источников демонстрирует экспоненциальный рост. Если в 2012 году был продемонстрирован источник мощностью 25 Вт, то десятикратное увеличение до 250 Вт произошло менее чем за десятилетие. Такой темп развития свидетельствует о том, что технология приближается к практической применимости в промышленном масштабе.
Производительность и экономика
Источник мощностью 250 Вт позволит обрабатывать 125 пластин в час, обеспечивая пропускную способность, необходимую для конкурентоспособного производства. По оценке ASML, стоимость одной установки для EUV-литографии составит не менее 100 млн долларов. Однако, несмотря на высокую цену оборудования, экономическая эффективность EUV-литографии превосходит традиционную иммерсионную литографию с несколькими шаблонами (три или четыре слоя), что делает инвестиции в новую технологию экономически оправданными.
Планы промышленного внедрения
Ведущие производители микроэлектроники — Intel, Samsung, TSMC и Globalfoundries — уже планируют начать массовое производство с использованием EUV-литографии в течение ближайших двух лет, что указывает на готовность отрасли переходить к этой технологии.
